Full metadata record
DC poleHodnotaJazyk
dc.contributor.advisorPajdarová, Andrea Dagmar
dc.contributor.authorKrejčová, Milada
dc.contributor.refereeKos, Šimon
dc.date.accepted2015-08-27
dc.date.accessioned2016-03-15T08:37:42Z
dc.date.available2014-05-01cs
dc.date.available2016-03-15T08:37:42Z
dc.date.issued2015
dc.date.submitted2015-08-17
dc.identifier64911
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/11025/17812
dc.description.abstractPředkládaná diplomová práce se zabývá v úvodu využitím plazmových technologií. Dále popisuje základy měření tlaku a magnetronového naprašování, včetně reaktivní depozice. Poté se zaměřuje na modelování molekulárního proudění a jeho aplikace. Ve zvolených metodách zpracování popisuje navržení testovací úlohy - proudění v trubce a také navržením simulace napouštění reaktivního plynu do vakuové komory pomocí metody Direct Simulation Monte Carlo. Ve výsledcích jsou porovnávány teoretické hodnoty tlaku, rychlosti a průtoku pro proudění argonu v trubce s hodnotami ze simulace. Dále byl studován vliv průtoku a vzdálenosti napouštěcí trubky od terče (substrátu) s orientací otvoru směrem k terči pro simulaci napouštění reaktivního plynu (kyslíku) do vakuové komory. Také byl studován vliv okrajové podmínky a rozšíření oblasti simulace.cs
dc.format71 s.cs
dc.format.mimetypeapplication/pdf
dc.language.isocscs
dc.publisherZápadočeská univerzita v Plznics
dc.rightsPlný text práce je přístupný bez omezení.cs
dc.subjectmolekulární prouděnícs
dc.subjectdsmccs
dc.subjectdirect simulation monte carlocs
dc.subjectnapouštění reaktivního plynu do vakuové komorycs
dc.titlePočítačové modelování napouštění reaktivního plynu pro vysokovýkonové pulzní magnetronové naprašování oxidů kovůcs
dc.title.alternativeComputer modeling of filling the reactive gas for high pulse magnetron sputtering of metal oxidesen
dc.typediplomová prácecs
dc.thesis.degree-nameIng.cs
dc.thesis.degree-levelNavazujícícs
dc.thesis.degree-grantorZápadočeská univerzita v Plzni. Fakulta aplikovaných vědcs
dc.thesis.degree-programAplikované vědy a informatikacs
dc.description.resultObhájenocs
dc.rights.accessopenAccessen
dc.description.abstract-translatedThe presented diploma thesis is at the beginning focused on application of plasma technologies. Next, it explains basics of the pressure measurement and the magnetron sputtering, including the reactive deposition and its application. In the Methodology chapter development of the test task - flow in a tube is described. There is also described development of simulation of reactive gas inlet into a vacuum chamber using Direct Simulation Monte Carlo method. Finally, the teoretic results of pressure, velocity and flow rate for flowing of oxygen in the tube are compared with results from the simulation. There is also studied an influece of the flow rate and the distance of the inlet tube from the target (substrate) with hole orientation in the inlet tube to the target. An influence of the boundary conditions and the enlargement of the simulated volume is also discussed.en
dc.subject.translatedmolecular flowen
dc.subject.translateddsmcen
dc.subject.translateddirect simulation monte carloen
dc.subject.translatedlet reactive gas into vacuum chamberen
Vyskytuje se v kolekcích:Diplomové práce / Theses (KFY)

Soubory připojené k záznamu:
Soubor Popis VelikostFormát 
DP-Krejcova2015.pdfPlný text práce15,73 MBAdobe PDFZobrazit/otevřít
vedouci-Krejcova_vedouci.pdfPosudek vedoucího práce636,48 kBAdobe PDFZobrazit/otevřít
oponent-Krejcova_oponent.pdfPosudek oponenta práce2,32 MBAdobe PDFZobrazit/otevřít
obhajoba-Krejcova_obhajoba.pdfPrůběh obhajoby práce234 kBAdobe PDFZobrazit/otevřít
Zobrazit minimální záznam Zobrazit statistiky


Použijte tento identifikátor k citaci nebo jako odkaz na tento záznam: http://hdl.handle.net/11025/17812

Všechny záznamy v DSpace jsou chráněny autorskými právy, všechna práva vyhrazena.

hledání
navigace
  1. DSpace at University of West Bohemia
  2. Vysokoškolské kvalifikační práce / Theses
  3. Fakulta aplikovaných věd / Faculty of Applied Sciences
  4. Katedra fyziky / Department of Physics
  5. Diplomové práce / Theses (KFY)