Název: Vysokorychlostní naprašování vrstev SiZrO
Další názvy: High-rate sputtering of Si-Zr-O films
Autoři: Vonásek, Martin
Vedoucí práce/školitel: Musil, Jindřich
Oponent: Kos, Šimon
Datum vydání: 2012
Nakladatel: Západočeská univerzita v Plzni
Typ dokumentu: bakalářská práce
URI: http://hdl.handle.net/11025/3717
Klíčová slova: Zr-Si-O;tenké vrstvy;mechanické vlastnosti;reaktivní magnetronové naprašování
Klíčová slova v dalším jazyce: Zr-Si-O;thin films;mechanical properties;reactive magnetron sputtering
Abstrakt: Tato bakalářská práce je věnována problematice AC pulzního reaktivního magnetronového naprašování vrstev Zr-Si-O za využití duálního magnetronu, který pracuje v uzavřené konfiguraci magnetického pole. Byl zkoumán vliv parciálního tlaku reaktivního plynu - kyslíku na depoziční rychlost, mechanické vlastnosti, strukturu a prvkové složení.
Abstrakt v dalším jazyce: This thesis is dedicated to the reactive magnetron sputtering Zr-Si-O films using ac pulse dual magnetron that operates in close magnetic field configuration. The partial pressures of reactive gas - oxygen on deposition rate, mechanical properties, structure and elemental composition of the obtained films have been investigated.
Práva: Plný text práce je přístupný bez omezení.
Vyskytuje se v kolekcích:Bakalářské práce / Bachelor´s works (KFY)

Soubory připojené k záznamu:
Soubor Popis VelikostFormát 
Bakalarska prace - Martin Vonasek.pdfPlný text práce1,38 MBAdobe PDFZobrazit/otevřít
Vonasek_vedouci.pdfPosudek vedoucího práce348,76 kBAdobe PDFZobrazit/otevřít
Vonasek_oponent.pdfPosudek oponenta práce1,58 MBAdobe PDFZobrazit/otevřít
Vonasek_otazky.pdfPrůběh obhajoby práce192,83 kBAdobe PDFZobrazit/otevřít
Zobrazit celý záznam Zobrazit statistiky


Použijte tento identifikátor k citaci nebo jako odkaz na tento záznam: http://hdl.handle.net/11025/3717

Všechny záznamy v DSpace jsou chráněny autorskými právy, všechna práva vyhrazena.

hledání
navigace
  1. DSpace at University of West Bohemia
  2. Vysokoškolské kvalifikační práce / Theses
  3. Fakulta aplikovaných věd / Faculty of Applied Sciences
  4. Katedra fyziky / Department of Physics
  5. Bakalářské práce / Bachelor´s works (KFY)