Title: Vysokorychlostní naprašování vrstev SiZrO
Other Titles: High-rate sputtering of Si-Zr-O films
Authors: Vonásek, Martin
Advisor: Musil, Jindřich
Referee: Kos, Šimon
Issue Date: 2012
Publisher: Západočeská univerzita v Plzni
Document type: bakalářská práce
URI: http://hdl.handle.net/11025/3717
Keywords: Zr-Si-O;tenké vrstvy;mechanické vlastnosti;reaktivní magnetronové naprašování
Keywords in different language: Zr-Si-O;thin films;mechanical properties;reactive magnetron sputtering
Abstract: Tato bakalářská práce je věnována problematice AC pulzního reaktivního magnetronového naprašování vrstev Zr-Si-O za využití duálního magnetronu, který pracuje v uzavřené konfiguraci magnetického pole. Byl zkoumán vliv parciálního tlaku reaktivního plynu - kyslíku na depoziční rychlost, mechanické vlastnosti, strukturu a prvkové složení.
Abstract in different language: This thesis is dedicated to the reactive magnetron sputtering Zr-Si-O films using ac pulse dual magnetron that operates in close magnetic field configuration. The partial pressures of reactive gas - oxygen on deposition rate, mechanical properties, structure and elemental composition of the obtained films have been investigated.
Rights: Plný text práce je přístupný bez omezení.
Appears in Collections:Bakalářské práce / Bachelor´s works (KFY)

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
Bakalarska prace - Martin Vonasek.pdfPlný text práce1,38 MBAdobe PDFView/Open
Vonasek_vedouci.pdfPosudek vedoucího práce348,76 kBAdobe PDFView/Open
Vonasek_oponent.pdfPosudek oponenta práce1,58 MBAdobe PDFView/Open
Vonasek_otazky.pdfPrůběh obhajoby práce192,83 kBAdobe PDFView/Open


Please use this identifier to cite or link to this item: http://hdl.handle.net/11025/3717

Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.