Full metadata record
DC pole | Hodnota | Jazyk |
---|---|---|
dc.contributor.advisor | Musil, Jindřich | |
dc.contributor.author | Vonásek, Martin | |
dc.contributor.referee | Kos, Šimon | |
dc.date.accepted | 2012-06-27 | |
dc.date.accessioned | 2013-06-19T06:55:57Z | - |
dc.date.available | 2011-05-01 | cs |
dc.date.available | 2013-06-19T06:55:57Z | - |
dc.date.issued | 2012 | |
dc.date.submitted | 2012-05-29 | |
dc.identifier | 49970 | |
dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/11025/3717 | |
dc.description.abstract | Tato bakalářská práce je věnována problematice AC pulzního reaktivního magnetronového naprašování vrstev Zr-Si-O za využití duálního magnetronu, který pracuje v uzavřené konfiguraci magnetického pole. Byl zkoumán vliv parciálního tlaku reaktivního plynu - kyslíku na depoziční rychlost, mechanické vlastnosti, strukturu a prvkové složení. | cs |
dc.format | 38 s. (41 000 znaků) | cs |
dc.format.mimetype | application/pdf | |
dc.language.iso | cs | cs |
dc.publisher | Západočeská univerzita v Plzni | cs |
dc.rights | Plný text práce je přístupný bez omezení. | cs |
dc.subject | Zr-Si-O | cs |
dc.subject | tenké vrstvy | cs |
dc.subject | mechanické vlastnosti | cs |
dc.subject | reaktivní magnetronové naprašování | cs |
dc.title | Vysokorychlostní naprašování vrstev SiZrO | cs |
dc.title.alternative | High-rate sputtering of Si-Zr-O films | en |
dc.type | bakalářská práce | cs |
dc.thesis.degree-name | Bc. | cs |
dc.thesis.degree-level | Bakalářský | cs |
dc.thesis.degree-grantor | Západočeská univerzita v Plzni. Fakulta aplikovaných věd | cs |
dc.description.department | Katedra fyziky | cs |
dc.thesis.degree-program | Aplikované vědy a informatika | cs |
dc.description.result | Obhájeno | cs |
dc.rights.access | openAccess | en |
dc.description.abstract-translated | This thesis is dedicated to the reactive magnetron sputtering Zr-Si-O films using ac pulse dual magnetron that operates in close magnetic field configuration. The partial pressures of reactive gas - oxygen on deposition rate, mechanical properties, structure and elemental composition of the obtained films have been investigated. | en |
dc.subject.translated | Zr-Si-O | en |
dc.subject.translated | thin films | en |
dc.subject.translated | mechanical properties | en |
dc.subject.translated | reactive magnetron sputtering | en |
Vyskytuje se v kolekcích: | Bakalářské práce / Bachelor´s works (KFY) |
Soubory připojené k záznamu:
Soubor | Popis | Velikost | Formát | |
---|---|---|---|---|
Bakalarska prace - Martin Vonasek.pdf | Plný text práce | 1,38 MB | Adobe PDF | Zobrazit/otevřít |
Vonasek_vedouci.pdf | Posudek vedoucího práce | 348,76 kB | Adobe PDF | Zobrazit/otevřít |
Vonasek_oponent.pdf | Posudek oponenta práce | 1,58 MB | Adobe PDF | Zobrazit/otevřít |
Vonasek_otazky.pdf | Průběh obhajoby práce | 192,83 kB | Adobe PDF | Zobrazit/otevřít |
Použijte tento identifikátor k citaci nebo jako odkaz na tento záznam:
http://hdl.handle.net/11025/3717
Všechny záznamy v DSpace jsou chráněny autorskými právy, všechna práva vyhrazena.