Název: Synergy of experiment and model for reactive HiPIMS: effect of discharge parameters on WOx composition and deposition rate
Další názvy: Synergie experimentu a modelu pro reaktivní HiPIMS: vliv výbojových parametrů na složení a depoziční rychlost vrstev WOx
Autoři: Rezek, Jiří
Kozák, Tomáš
Kumar, Nirmal
Haviar, Stanislav
Citace zdrojového dokumentu: REZEK, J., KOZÁK, T., KUMAR, N., HAVIAR, S. Synergy of experiment and model for reactive HiPIMS: effect of discharge parameters on WOx composition and deposition rate. Journal of physics d-applied physics, 2021, roč. 54, č. 12, s. „125202-1“-„125202-11“. ISSN 0022-3727.
Datum vydání: 2021
Nakladatel: IOP Publishing
Typ dokumentu: článek
article
URI: 2-s2.0-85100312652
http://hdl.handle.net/11025/42776
ISSN: 0022-3727
Klíčová slova: Model reaktivního HiPIMS;depoziční rychlost;oxid wolframu
Klíčová slova v dalším jazyce: reactive HiPIMS model;deposition rate;tungsten oxide
Abstrakt: Bylo provedeno reaktivní vysokovýkonové pulzní magnetronové naprašování vrstev oxidu wolframu. Použit byl kovový wolframový terč (průměr 72 mm) v argon-kyslíkové atmosféře (celkový tlak 0,75 Pa). Byl vyšetřován vliv různých výbojových parametrů na depoziční rychlost a obsah kyslíku ve vrstvě. Navíc byl použit model kombinující model reaktivního vysokovýkonového pulzního naprašování a výbojový model pro ionizační oblast. To umožnilo hlubší vhled na vliv jednotlivých parametrů plazmového výboje, jako je délka pulzu (100–800 µs), parciální tlak kyslíku (0,25–0,50 Pa) nebo hodnota průměrné výkonové hustoty v pulzu (2,5–500 W/cm^2). Jsou diskutovány (a dávány do kontextu s experimentálními daty) výsledky prezentovaného modelu, zejména trendy ve stupni pokrytí terče a substrátu oxidem, složení toků částic na substrát, stupeň ionizace atomů W nebo stupeň disociace molekul O2.
Abstrakt v dalším jazyce: Reactive high-power impulse magnetron sputtering of tungsten oxide films using metallic tungsten target (72 mm in diameter) in argon-oxygen atmosphere (total pressure of 0.75 Pa) was carried out. The effect of various discharge parameters on the deposition rate and film oxygen concentration was investigated. Moreover, a model combining a reactive HiPIMS model and a discharge plasma model for the ionization region was successfully used for deeper insight into the effect of particular discharge parameters such as voltage pulse length (from 100–800 µs), oxygen partial pressure (from 0.25–0.50 Pa) or the value of pulse-averaged target power density (from 2.5–500 W/cm^2). The results of the presented model, most notably trends in target- and substrate oxide fraction, composition of particle fluxes onto the substrate, degree of W atoms ionization or degree of O2 molecule dissociation are discussed and put into context with experimentally measured quantities.
Práva: © IOP Publishing
Vyskytuje se v kolekcích:Články / Articles (NTIS)
Články / Articles (KKY)
OBD

Soubory připojené k záznamu:
Soubor VelikostFormát 
Rezek_2021_J._Phys._D__Appl._Phys._54_125202.pdf1,91 MBAdobe PDFZobrazit/otevřít


Použijte tento identifikátor k citaci nebo jako odkaz na tento záznam: http://hdl.handle.net/11025/42776

Všechny záznamy v DSpace jsou chráněny autorskými právy, všechna práva vyhrazena.

hledání
navigace
  1. DSpace at University of West Bohemia
  2. Publikační činnost / Publications
  3. OBD