Full metadata record
DC pole | Hodnota | Jazyk |
---|---|---|
dc.contributor.author | Tvarožek, Vladimír | |
dc.contributor.author | Szabó, O. | |
dc.contributor.author | Novotný, I. | |
dc.contributor.author | Kováčová, S. | |
dc.contributor.author | Škriniarová, J. | |
dc.contributor.author | Šutta, Pavol | |
dc.date.accessioned | 2017-05-17T11:06:27Z | |
dc.date.available | 2017-05-17T11:06:27Z | |
dc.date.issued | 2017 | |
dc.identifier.citation | TVAROŽEK, Vladimír, SZABÓ, O., NOVOTNÝ, I., KOVÁČOVÁ, S., ŠKRINIAROVÁ, J., ŠUTTA, Pavol. Plasmonic behaviour of sputtered Au nano island arrays. Applied Surface Science, 2017, roč. 395, č. FEB 15 2017, s. 1-7. ISSN 0169-4332. | en |
dc.identifier.issn | 0169-4332 | |
dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/11025/25990 | |
dc.identifier.uri | http://apps.webofknowledge.com/InboundService.do?mode=FullRecord&customersID=Alerting&IsProductCode=Yes&product=WOS&Init=Yes&Func=Frame&DestFail=http%3A%2F%2Fwww.webofknowledge.com&action=retrieve&SrcApp=Alerting&SrcAuth=Alerting&SID=U1wnLaUtaTrKMC1Crfb&UT=WOS%3A000390428300041 | |
dc.identifier.uri | https://www.scopus.com/record/display.uri?origin=resultslist&eid=2-s2.0-84969916640 | |
dc.description.abstract | Je demonstrována specifikace formování naprášených Au nano-ostrůvkových polí (NOP) na skleněných substrátech, anebo na tenkých vrstvách ZnO dopovaných galiem. Statistická analýza morfologie zobrazení SEM a AFM ukázala normální rozdělení velikosti nano-částic na dlouhou vzdálenost - jejich modus AM se měnil z 8 na 328 nm2 v závislosti na hustotě výkonu naprašování, který definoval nominální tloušťku vrstvy v rozpětí 2-8 nm. Přednostní orientace krystalitů Au NOP ve směru [111] kolmém k podložce se zvyšuje s vyšší hustotou výkonu naprašování a po tepelném zpracování vrstev. Příčně lokalizovaná povrchová plazmonická rezonance (LPPR vyhodnocená pomocí transmisní UV-Vis spektrofotometrie) ukázala „rudý“ posun extinkčního maxima (l ≤ 100 nm) se zvýšením nominální tloušťky a „modrý“ posun (≤ -65 nm) po žíhání Au NOP. Plazmonické vlastnosti Au NOP byly popsány modifikací velikostně škálovacího univerzálního modelu použitím nominální tloušťky vrstvy jako technologického škálovacího parametru. Naprášením mezilehlé ultra-tenké vrstvy titanu mezi sklo a zlato se zlepší adheze zlatých nano-ostrůvků, jakož i podpora formování lépe definované struktury Au NOP menší dimenze. | cs |
dc.format | 7 s. | cs |
dc.format.mimetype | application/pdf | |
dc.language.iso | en | en |
dc.publisher | Elsevier | en |
dc.rights | Plný text není přístupný. | cs |
dc.rights | © Elsevier | en |
dc.subject | sekvenční naprašování | cs |
dc.subject | Au nano-ostrůvkové pole | cs |
dc.subject | lokalizovaná povrchová plazmonová rezonance | cs |
dc.subject | univerzální tloušťkové škálovací pravidlo plazmonové rezonance | cs |
dc.title | Plazmonické vlastnosti naprášených Au nano-ostrůvkových polí | cs |
dc.title | Plasmonic behaviour of sputtered Au nano island arrays | en |
dc.type | preprint | cs |
dc.type | článek | cs |
dc.type | preprint | en |
dc.type | article | en |
dc.rights.access | closedAccess | en |
dc.type.version | publishedVersion | en |
dc.type.version | draft | en |
dc.description.abstract-translated | The specificity of the formation of Au sputtered nanoisland arrays (NIA) on a glass substrate or on a ZnO thin film doped by Ga is demonstrated. Statistical analysis of morphology images (SEM, AFM) exhibited the Log-normal distribution of the size (area) of nanoislands—their modus AM varied from 8 to 328 nm2 depending on the sputtering power density, which determined the nominal thicknesses in the range of 2–8 nm. Preferential polycrystalline texture (111) of Au NIA increased with the power density and after annealing. Transverse localised surface plasmonic resonance (LSPR; evaluated by transmission UV–vis spectroscopy) showed the red shift of the extinction peaks (l ≤ 100 nm) with an increase of the nominal thickness, and the blue shift( ≤ −65 nm) after annealing of Au NIA. The plasmonic behaviour of Au NIA was described by modification of a size-scaling universal model using the nominal thin film thickness as a technological scaling parameter. Sputtering of a Ti intermediate adhesive ultrathin film between the glass substrate and gold improves the adhesion of Au nanoislands as well as supporting the formation of more defined Au NIA structures of smaller dimensions. | en |
dc.subject.translated | sequential sputtering | en |
dc.subject.translated | Au nano-island arrays | en |
dc.subject.translated | localized surface plasmon resonance | en |
dc.subject.translated | universal thickness scale rule of plasmon resonance | en |
dc.identifier.doi | 10.1016/j.apsusc.2016.04.183 | |
dc.type.status | Peer-reviewed | en |
dc.identifier.obd | 43915573 | |
dc.project.ID | info:eu-repo/grantAgreetment/EC/Výpočetní a experimentální design pokročilých materiálů s novými funkcionalitami /CZ.02.1.01/0.0/0.0/15_003/0000358 | cs |
Vyskytuje se v kolekcích: | OpenAire Články / Articles (KFY) Preprinty / Preprints (KFY) OBD |
Soubory připojené k záznamu:
Soubor | Popis | Velikost | Formát | |
---|---|---|---|---|
Plasmonic behaviour_PRE.pdf | 2,94 MB | Adobe PDF | Zobrazit/otevřít | |
Plasmonic behaviour.pdf | 2,89 MB | Adobe PDF | Zobrazit/otevřít Vyžádat kopii |
Použijte tento identifikátor k citaci nebo jako odkaz na tento záznam:
http://hdl.handle.net/11025/25990
Všechny záznamy v DSpace jsou chráněny autorskými právy, všechna práva vyhrazena.