| Název: | Flexible hard (Zr, Si) alloy films prepared by magnetron sputtering |
| Další názvy: | Ohebné tvrdé (Zr, Si) slitinové vrstvy připravené magnetronovým naprašováním |
| Autoři: | Musil, Jindřich Čiperová, Zuzana Čerstvý, Radomír Haviar, Stanislav |
| Citace zdrojového dokumentu: | MUSIL, J., ČIPEROVÁ, Z., ČERSTVÝ, R., HAVIAR, S. Flexible hard (Zr, Si) alloy films prepared by magnetron sputtering. Thin Solid Films, 2019, roč. 688, č. 31 OCT 2019, s. „137216-1“-„137216-7“. ISSN 0040-6090. |
| Datum vydání: | 2019 |
| Nakladatel: | Elsevier |
| Typ dokumentu: | článek article |
| URI: | 2-s2.0-85063863136 http://hdl.handle.net/11025/35394 |
| ISSN: | 0040-6090 |
| Klíčová slova: | Zr-Si slitiny;Tenké vrstvy;Struktura, Mechanické vlastnosti;Mikrostruktura;Odolnost proti vzniku trhlin;Magnetronové naprašování |
| Klíčová slova v dalším jazyce: | Zirconium-silicon alloy;Thin films;Structure;Mechanical properties;Microstructure;Resistance to cracking;Magnetron sputtering |
| Abstrakt: | Článek pojednává o vyšetřování mechanických vlastností (Zr, Si) slitinových vrstev s vysokým obsahem Si připravených magnetronovým naprašováním. Hlavním cílem zkoumání bylo vyvinout ohebné tvrdé (Zr, Si) slitinové vrstvy se zvýšenou odolnosti proti vzniku trhlin. (Zr, Si) vrstvy byly připraveny pomocí pulzního duálního magnetronového výboje. Mechanické vlastnosti a prvkové složení (Zr, Si) vrstev byly řízeny záporným předpětím na substrátu, tedy energií dodanou do rostoucí vrstvy dopadajícími ionty. Bylo zjištěno, že pulzní duální magnetronový výboj umožňuje přípravu ohebných tvrdých (Zr, Si) slitinových vrstev s vysokou hodnotou tvrdosti H ≈ 20 GPa, poměrem H/E* > 0,1, elastickou vratností We > 60 %, kompresním pnutím a hustou mikrostrukturou bez pórů. Tyto slitinové vrstvy obsahují stejné množství Zr a Si v at. % a vykazují zvýšenou odolnost proti vzniku trhlin. |
| Abstrakt v dalším jazyce: | The article reports on the investigation of mechanical properties of Si-rich (Zr, Si) alloy films deposited by magnetron sputtering. The main aim of this investigation is to develop flexible hard (Zr, Si) alloy films with enhanced resistance to cracking. The (Zr, Si) films were formed by a pulsed dual magnetron discharge. Mechanical properties and elemental composition of sputtered (Zr, Si) films were tuned by a negative substrate bias, i.e. by the energy delivered to the growing film by bombarding ions. It was found that using of pulsed dual magnetron discharge makes it possible to deposit flexible hard (Zr, Si) alloy films with high values of hardness H ≈ 20 GPa, ratio H/E* > 0.1, elastic recovery We > 60%, compressive macrostress and dense, voids-free microstructure. These alloy films contain the same amount of Zr and Si in at.% and exhibit strongly enhanced resistance to cracking. |
| Práva: | Plný text není přístupný. © Elsevier |
| Vyskytuje se v kolekcích: | Články / Articles (KFY) OBD |
Soubory připojené k záznamu:
| Soubor | Velikost | Formát | |
|---|---|---|---|
| OBD19_Musil,Ciperova,Cerstvy_clanek.pdf | 1,36 MB | Adobe PDF | Zobrazit/otevřít Vyžádat kopii |
Použijte tento identifikátor k citaci nebo jako odkaz na tento záznam:
http://hdl.handle.net/11025/35394Všechny záznamy v DSpace jsou chráněny autorskými právy, všechna práva vyhrazena.