| Název: | Graphene growth by chemical vapor deposition process on copper foil |
| Autoři: | Macháč, P. Bláhová, V. |
| Citace zdrojového dokumentu: | Electroscope. 2016, č. 3. |
| Datum vydání: | 2016 |
| Nakladatel: | Západočeská univerzita v Plzni, Fakulta elektrotechnická |
| Typ dokumentu: | článek article |
| URI: | http://hdl.handle.net/11025/22031 |
| ISSN: | 1802-4564 |
| Klíčová slova: | grafen;chemická depozice;graphene;chemical deposition |
| Abstrakt: | Příspěvek popisuje přípravu a charakterizaci grafenových filmů připravených metodou chemické depozice z plynného prostředí. Je použit reaktor se studeným pláštěm, jako zdroj uhlíku je použit metan. Grafen je vytvořen na měděné fólii při teplotě cca 1000°C. Druhým krokem přípravy je přenos grafenu na dielektrický substrát s využitím polymethylmethakrylátu. Nejlepší připravené grafenové filmy vykazují tloušťku v rozmezí jedné až dvou uhlíkových nanovrstev. |
| Práva: | Copyright © 2015 Electroscope. All Rights Reserved. |
| Vyskytuje se v kolekcích: | Číslo 3 (2016) - IMAPS flash Conference 2016 Číslo 3 (2016) - IMAPS flash Conference 2016 |
Soubory připojené k záznamu:
| Soubor | Popis | Velikost | Formát | |
|---|---|---|---|---|
| Machac.pdf | Plný text | 512,79 kB | Adobe PDF | Zobrazit/otevřít |
Použijte tento identifikátor k citaci nebo jako odkaz na tento záznam:
http://hdl.handle.net/11025/22031Všechny záznamy v DSpace jsou chráněny autorskými právy, všechna práva vyhrazena.