| Title: | Graphene growth by chemical vapor deposition process on copper foil |
| Authors: | Macháč, P. Bláhová, V. |
| Citation: | Electroscope. 2016, č. 3. |
| Issue Date: | 2016 |
| Publisher: | Západočeská univerzita v Plzni, Fakulta elektrotechnická |
| Document type: | článek article |
| URI: | http://hdl.handle.net/11025/22031 |
| ISSN: | 1802-4564 |
| Keywords: | grafen;chemická depozice;graphene;chemical deposition |
| Abstract: | Příspěvek popisuje přípravu a charakterizaci grafenových filmů připravených metodou chemické depozice z plynného prostředí. Je použit reaktor se studeným pláštěm, jako zdroj uhlíku je použit metan. Grafen je vytvořen na měděné fólii při teplotě cca 1000°C. Druhým krokem přípravy je přenos grafenu na dielektrický substrát s využitím polymethylmethakrylátu. Nejlepší připravené grafenové filmy vykazují tloušťku v rozmezí jedné až dvou uhlíkových nanovrstev. |
| Rights: | Copyright © 2015 Electroscope. All Rights Reserved. |
| Appears in Collections: | Číslo 3 (2016) - IMAPS flash Conference 2016 Číslo 3 (2016) - IMAPS flash Conference 2016 |
Files in This Item:
| File | Description | Size | Format | |
|---|---|---|---|---|
| Machac.pdf | Plný text | 512,79 kB | Adobe PDF | View/Open |
Please use this identifier to cite or link to this item:
http://hdl.handle.net/11025/22031Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.