Název: Magnetronově naprašovaná tenkovrstvá kovová skla a jejich charakterizace
Autoři: Kotrlová, Michaela
Zeman Petr, Doc. Ing. Ph.D.
Vedoucí práce/školitel: Zeman Petr, Doc. Ing. Ph.D.
Oponent: Pajdarová Andrea Dagmar, Mgr. Ph.D.
Datum vydání: 2016
Nakladatel: Západočeská univerzita v Plzni
Typ dokumentu: diplomová práce
URI: http://hdl.handle.net/11025/23704
Klíčová slova: tenkovrstvá kovová skla;zr-cu;hipims;magnetronové naprašování
Klíčová slova v dalším jazyce: thin film metallic glasses;zr-cu;hipims;magnetron sputtering
Abstrakt: V rámci této diplomové práce byla připravena tenkovrstvá kovová skla Zr-Cu kombinací metod vysokovýkonového pulzního magnetronového naprašování a DC magnetronového naprašování v Ar. Byl zkoumán vliv obsahu Cu ve vrstvách (0-100 at. % Cu), použitého napětí na substrátu (Us=Ufl, -30 V, -50 V, -70 V) a délky pulzu (100, 150 a 200 mikrosekund) na prvkové složení, strukturu, tepelné, mechanicke a povrchové vlastnosti a elektrickou rezistivitu vrstev Zr-Cu. Bylo zjištěno, že vrstvy Zr-Cu v rozsahu 30-83 at. % Cu vykazovaly amorfní strukturu. O tenkovrstvá kovová skla se jednalo v rozsahu složení 30-65 at. % Cu, přičemž velikost oblasti přechlazené kapaliny byla ~42°C. Dále bylo zjištěno, že u tenkovrstvého kovového skla Zr-Cu připraveného s hodnotou předpětí na substrátu Us=-50 V nebyly patrné smykové deformační pásy, což nasvědčuje zlepšenému plastickému chování vrstvy. V poslední řadě bylo zjištěno, že zkracováním délky pulzu dochází k nárůstu počtu defektů vytvořených ve vrstvách během depozice.
Abstrakt v dalším jazyce: This thesis focuses on the preparation of Zr-Cu thin film metallic glasses deposited by HiPIMS and DC magnetron sputtering in pure argon. The influence of the coposition of the Zr-Cu thin films (0-100 at. % Cu), the value of substrate bias (Us=Ufl, -30 V, -50 V, -70 V) and the pulse duration (100, 150 and 200 microseconds) on the structure composition, structure, thermal, mechanical and surface properties and electrical resistivity has been analyzed. It was found that the Zr-Cu thin films are amorphous in the range of 30-65 at. % Cu. The Zr-Cu thin film metallic glasses was prepared in the range of 30-65 at. % Cu and the super-cooled liquid region was about ~42°C. There were discovered no shear bands in the Zr-Cu thin film metallic glasses prepared with the value of substrate bias Us=-50 V. This may be caused by improvements in plastic behavior of the thin film. Finally it was found that the number of defects formed in the layer during deposition increase with the shortening of the pulse duration.
Práva: Plný text práce je přístupný bez omezení.
Vyskytuje se v kolekcích:Diplomové práce / Theses (KFY)

Soubory připojené k záznamu:
Soubor Popis VelikostFormát 
Kotrlova_DP.pdfPlný text práce5,34 MBAdobe PDFZobrazit/otevřít
Kotrlova_oponent.pdfPosudek oponenta práce1,25 MBAdobe PDFZobrazit/otevřít
Kotrlova_vedouci.pdfPosudek vedoucího práce562 kBAdobe PDFZobrazit/otevřít
Kotrlova_otazky.pdfPrůběh obhajoby práce229,68 kBAdobe PDFZobrazit/otevřít


Použijte tento identifikátor k citaci nebo jako odkaz na tento záznam: http://hdl.handle.net/11025/23704

Všechny záznamy v DSpace jsou chráněny autorskými právy, všechna práva vyhrazena.