| Název: | Method for qualification cleaning of electronic assemblies, validation of process changes in cleaning process |
| Autoři: | Sítko, Vladimír |
| Citace zdrojového dokumentu: | Electroscope. 2018, č. 1. |
| Datum vydání: | 2018 |
| Nakladatel: | Západočeská univerzita v Plzni, Fakulta elektrotechnická |
| Typ dokumentu: | článek article |
| URI: | http://147.228.94.30/images/PDF/Rocnik2018/Cislo1_2018/r12c1c6.pdf http://hdl.handle.net/11025/31001 |
| ISSN: | 1802-4564 |
| Klíčová slova: | elektronické sestavy;čistící proces;optické měření;měření iontové kontaminace |
| Klíčová slova v dalším jazyce: | electronic assemblies;cleaning process;optical measurement;ionic contamination measurement |
| Abstrakt v dalším jazyce: | The described experiment was designed to verify and demonstrate current situation in determining cleanliness of electronic assemblies with leadless and high dense components. We have compared the historically introduced method of ionic contamination measuring with new optical method of determining flux residues under component with very thin gap. It should be interpreted as a confirmation of just released Addendum of IPC J STD 001 standard, which definitely state, that ionic contamination measurement ( ROSE method) cannot give an objective evidence of cleanliness of SMT electronic assembly and prediction of reliability. |
| Práva: | Copyright © 2018 Electroscope. All Rights Reserved. |
| Vyskytuje se v kolekcích: | Číslo 1 (2018) Číslo 1 (2018) |
Soubory připojené k záznamu:
| Soubor | Popis | Velikost | Formát | |
|---|---|---|---|---|
| r12c1c6.pdf | Plný text | 735,58 kB | Adobe PDF | Zobrazit/otevřít |
Použijte tento identifikátor k citaci nebo jako odkaz na tento záznam:
http://hdl.handle.net/11025/31001Všechny záznamy v DSpace jsou chráněny autorskými právy, všechna práva vyhrazena.