Název: Multifunctional MoOx and MoOxNy films with 2.5 < x < 3.0 and y < 0.2 prepared using controlled reactive deep oscillation magnetron sputtering
Další názvy: Multifunkční vrstvy MoOx a MoOxNy s 2,5 < x < 3,0 a y < 0,2 připravené pomocí kontrolovaného reaktivního magnetronového naprašování s hlubokými oscilacemi
Autoři: Procházka, Michal
Vlček, Jaroslav
Houška, Jiří
Haviar, Stanislav
Čerstvý, Radomír
Veltruská, Kateřina
Citace zdrojového dokumentu: PROCHÁZKA, M., VLČEK, J., HOUŠKA, J., HAVIAR, S., ČERSTVÝ, R., VELTRUSKÁ, K. Multifunctional MoOx and MoOxNy films with 2.5 &lt; x &lt; 3.0 and y &lt; 0.2 prepared using controlled reactive deep oscillation magnetron sputtering. Thin Solid Films, 2021, roč. 717, č. 1 JANUARY 2021, s. „138442-1“ - „138442-9“. ISSN 0040-6090.
Datum vydání: 2021
Nakladatel: Elsevier
Typ dokumentu: článek
article
URI: 2-s2.0-85097180111
http://hdl.handle.net/11025/42623
ISSN: 0040-6090
Klíčová slova: Redukované trioxidy molybdenu;Oxynitridy molybdenu;Kontrolované reaktivní magnetronové naprašování s hlubokými oscilacemi;Řiditelné složení;Optické vlastnosti;Elektrická vodivost
Klíčová slova v dalším jazyce: Reduced molybdenum trioxides;Molybdenum oxynitrides;Controlled reactive deep oscillation magnetron sputtering;Tunable composition;Optical properties;Electrical conductivity
Abstrakt: Reaktivní magnetronové naprašování s hlubokými oscilacemi, pulzní kontrolou toku reaktivního plynu a vstupem reaktivního plynu, orientovaným k substrátu a umístěným v zóně hustého plazmatu před Mo terčem, bylo použito pro nízkoteplotní (< 120 °C) přípravu vrstev MoOx a MoOxNy s 2,5 < x < 3,0 a y < 0,2. Vysvětlujeme výhody použité depoziční techniky umožňující hladkou a reprodukovatelnou kontrolu složení vrstev a tím i jejich struktury a vlastností. Speciální pozornost věnujeme silnému dopadu malého snížení x ve vrstvách MoOx a malého zvýšení y ve vrstvách MoOxNy na jejich optické a elektrické vlastnosti, které přímo souvisí s proměnnou elektronovou strukturou těchto vrstev. Diskutujeme možné aplikace těchto vrstev v oblasti solárních článků, organické elektroniky a lithium-iontových baterií.
Abstrakt v dalším jazyce: Reactive deep oscillation magnetron sputtering with a pulsed reactive gas flow control and to-substrate reactive gas injection into the high-density plasma in front of the sputtered Mo target was used for a low-temperature (< 120 °C) preparation of MoOx and MoOxNy films with 2.5 < x < 3.0 and y < 0.2. We explain the advantages of this deposition technique, allowing us to control smoothly and reproducibly the film composition and thus the film structure and properties. Special attention is paid to the strong effect of slightly decreasing x in MoOx films and slightly increasing y in MoOxNy films on their optical and electrical properties which are directly related to varying electronic structure of the films. We discuss possible applications of these films in the field of solar cells, organic electronic devices and lithium-ion batteries.
Práva: Plný text není přístupný.
© Elsevier
Vyskytuje se v kolekcích:Články / Articles (NTIS)
Články / Articles (KFY)
OBD

Soubory připojené k záznamu:
Soubor VelikostFormát 
OBD20_Prochazka,Vlcek,Houska_clanek.pdf2,97 MBAdobe PDFZobrazit/otevřít  Vyžádat kopii


Použijte tento identifikátor k citaci nebo jako odkaz na tento záznam: http://hdl.handle.net/11025/42623

Všechny záznamy v DSpace jsou chráněny autorskými právy, všechna práva vyhrazena.

hledání
navigace
  1. DSpace at University of West Bohemia
  2. Publikační činnost / Publications
  3. OBD