| Název: | Phase formation and mechanical properties of reactively and non-reactively sputtered Ti-B-N hard coatings |
| Další názvy: | Vznik fází a mechanické vlastnosti reaktivně a nereaktivně naprašovaných tvrdých vrstev Ti-B-N |
| Autoři: | Hahn, R. Tymoszuk, A. Wojcik, T. Kirnbauer, A. Kozák, Tomáš Čapek, Jiří Sauer, M. Foelske, A. Hunold, O. Polcik, P. Mayrhofer, P.H. Riedl, H. |
| Citace zdrojového dokumentu: | HAHN, R., TYMOSZUK, A., WOJCIK, T., KIRNBAUER, A., KOZÁK, T., ČAPEK, J., SAUER, M., FOELSKE, A., HUNOLD, O., POLCIK, P., MAYRHOFER, P., RIEDL, H. Phase formation and mechanical properties of reactively and non-reactively sputtered Ti-B-N hard coatings. Surface and Coatings Technology, 2021, roč. 420, č. 25 AUG 2021, s. "127327-1" - "127327-11". ISSN 0257-8972. |
| Datum vydání: | 2021 |
| Nakladatel: | Elsevier |
| Typ dokumentu: | článek article |
| URI: | 2-s2.0-85107160831 http://hdl.handle.net/11025/44922 |
| ISSN: | 0257-8972 |
| Klíčová slova: | Depozice z plynné fáze;Nereaktivní magnetronové naprašování;Mez pevnosti;Ti-B-N |
| Klíčová slova v dalším jazyce: | Physical vapor deposition;Non-reactive magnetron sputtering;Fracture toughness;Ti-B-N |
| Abstrakt: | Článek systematicky studuje vliv obsahu B ve vrstvách Ti-B-N připravených reaktivním i nereaktivním magnetronovým naprašováním. Rozdílné postupy depozice vedou na odlišné mikrostruktury a vazebné charakteristiky připravených vrstev. Během reaktivní depozice Ti-B-N dominují vazby B-N, zatímco vazby B-B a Ti-B dominují při nereaktivní depozici. Rentgenová difrakce a transmisní elektronová mikroskopie prokazují, že až 10 at.% B může být rozpuštěno v fcc mřížce Ti-N u vrstev připravených nereaktivním naprašováním. Na druhou stranu u vrstev připravených reaktivním naprašováním s obsahem B 4 at.% dochází již ke vzniku fáze BN. |
| Abstrakt v dalším jazyce: | The article systematically studies the influence of B content on Ti-B-N during reactive as well as non-reactive DC magnetron sputtering. The different deposition routes allow for an additional, very effective key parameter to modify bond characteristics and microstructure. During reactive deposition of Ti-B-N, the B–N bonds dominate whereas the B–B and Ti–B bonds dominate for non-reactively prepared Ti-B-N. Detailed X-ray diffraction and transmission electron microscopy studies reveal, that up to 10 at.% B can be dissolved in the fcc-TiN lattice when prepared by non-reactive sputtering, whereas already for a B content of 4 at.% a BN-rich boundary phase forms when reactively sputtered. |
| Práva: | © Elsevier |
| Vyskytuje se v kolekcích: | Články / Articles (NTIS) OBD |
Soubory připojené k záznamu:
| Soubor | Velikost | Formát | |
|---|---|---|---|
| OBD21_Kozak,Capek_clanek.pdf | 5,23 MB | Adobe PDF | Zobrazit/otevřít |
Použijte tento identifikátor k citaci nebo jako odkaz na tento záznam:
http://hdl.handle.net/11025/44922Všechny záznamy v DSpace jsou chráněny autorskými právy, všechna práva vyhrazena.