Název: Reactive high-power impulse magnetron sputtering of thermochromic VO2 films on silicon substrate at low deposition temperatures
Autoři: Kolenatý, David
Houška, Jiří
Rezek, Jiří
Čerstvý, Radomír
Vlček, Jaroslav
Citace zdrojového dokumentu: LUKEŠ, Vladimír ed. Studentská vědecká konference: magisterské a doktorské programy, sborník rozšířených abstraktů, květen 2016, Plzeň. Plzeň: Západočeská univerzita v Plzni, 2016, s. [35-36]. ISBN 978-80-261-0621-0.
Datum vydání: 2016
Nakladatel: Západočeská univerzita v Plzni
Typ dokumentu: konferenční příspěvek
conferenceObject
URI: http://svk.fav.zcu.cz/download/sbornik_svk_2016.pdf
http://hdl.handle.net/11025/21376
ISBN: 978-80-261-0621-0
Klíčová slova: magnetronové naprašování;vanad uhličitý;teplota
Klíčová slova v dalším jazyce: magnetron sputtering;vanadium dioxide;temperature
Práva: © Západočeská univerzita v Plzni
Vyskytuje se v kolekcích:Studentská vědecká konference 2016
Studentská vědecká konference 2016

Soubory připojené k záznamu:
Soubor Popis VelikostFormát 
Kolenaty.pdfPlný text357,43 kBAdobe PDFZobrazit/otevřít


Použijte tento identifikátor k citaci nebo jako odkaz na tento záznam: http://hdl.handle.net/11025/21376

Všechny záznamy v DSpace jsou chráněny autorskými právy, všechna práva vyhrazena.