Full metadata record
DC poleHodnotaJazyk
dc.contributor.advisorMusil, Jindřich
dc.contributor.authorŠatava, Václav
dc.date.accepted2012-06-27
dc.date.accessioned2015-05-11T09:17:12Z-
dc.date.available2006-09-01cs
dc.date.available2015-05-11T09:17:12Z-
dc.date.issued2012
dc.date.submitted2011-07-25
dc.identifier23504
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/11025/5441
dc.description.abstractHlavní cíl této dizertační práce bylo zkoumání vlivu teploty (až do 1700°C) na strukturu a vlastnosti žíhaných vrstev Al-Ti-O a Si-Zr-O připravené pomocí reaktivního magnetronového naprašování. Poslední část této práce je zaměřena na zvýšení depoziční rychlosti kombinací procesů reaktivního naprašování a napařování z nataveného terče magnetronu. Tímto kombinovaným procesem byly připraveny velmi vysokou depoziční rychlostí (až 814 nm/min)transparentní amorfní SiO2 vrstvy s nízkým obsahem Zr.cs
dc.format118 s.cs
dc.format.mimetypeapplication/pdf
dc.language.isocscs
dc.publisherZápadočeská univerzita v Plznics
dc.relation.isreferencedbyhttps://portal.zcu.cz/StagPortletsJSR168/CleanUrl?urlid=prohlizeni-prace-detail&praceIdno=23504-
dc.rightsPlný text práce je přístupný bez omezení.cs
dc.subjectReaktivní magnetronová depozicecs
dc.subjectAl-Ti-Ocs
dc.subjectSi-Zr-Ocs
dc.subjecttepelná stabilitacs
dc.subjectvypařovánícs
dc.titleReaktivní magnetronová depozice vybraných oxidových vrstev a jejich vlastnostics
dc.title.alternativeReactive magnetron sputtering of selected oxide films and their propertiesen
dc.typedisertační prácecs
dc.thesis.degree-namePh.D.cs
dc.thesis.degree-levelDoktorskýcs
dc.thesis.degree-grantorZápadočeská univerzita v Plzni. Fakulta aplikovaných vědcs
dc.description.departmentKatedra fyzikycs
dc.thesis.degree-programAplikované vědy a informatikacs
dc.description.resultObhájenocs
dc.rights.accessopenAccessen
dc.description.abstract-translatedThe main aim of this dissertation thesis was investigation of influence of temperature (up to 1700°C) on structure and mechanical properties of annealed of films Al-Ti-O and Si-Zr-O prepared by reactive magnetron sputtering. The last part of this dissertation thesis is high deposition rate-oriented by combination of process of reactive sputtering and evaporation from molten target. With this combined process were prepared with very high deposition rate (up to 814 nm/min) transparent amorphous SiO2 films with low content Zr.en
dc.subject.translatedReactive magnetron sputteringen
dc.subject.translatedAl-Ti-Oen
dc.subject.translatedSi-Zr-Oen
dc.subject.translatedthermal stabilityen
dc.subject.translatedevaporationen
Vyskytuje se v kolekcích:Disertační práce / Dissertations (KMA)

Soubory připojené k záznamu:
Soubor Popis VelikostFormát 
Dizertacni prace.pdfPlný text práce2,28 MBAdobe PDFZobrazit/otevřít
posudek-skolitel-satava.pdfPosudek vedoucího práce32,43 kBAdobe PDFZobrazit/otevřít
posudky-odp-satava.pdfPosudek oponenta práce136,82 kBAdobe PDFZobrazit/otevřít
zapis-odp-satava.pdfPrůběh obhajoby práce43,47 kBAdobe PDFZobrazit/otevřít
Zobrazit minimální záznam Zobrazit statistiky


Použijte tento identifikátor k citaci nebo jako odkaz na tento záznam: http://hdl.handle.net/11025/5441

Všechny záznamy v DSpace jsou chráněny autorskými právy, všechna práva vyhrazena.

hledání
navigace
  1. DSpace at University of West Bohemia
  2. Publikační činnost / Publications
  3. Fakulta aplikovaných věd / Faculty of Applied Sciences
  4. Katedra matematiky / Department of Mathematics
  5. Disertační práce / Dissertations (KMA)