Full metadata record
DC poleHodnotaJazyk
dc.contributor.advisorVlček, Jaroslav
dc.contributor.advisorKohout, Jiří
dc.contributor.authorProcházka, Michal
dc.contributor.refereeKubásek, Milan
dc.date.accepted2013-06-24
dc.date.accessioned2014-02-06T12:56:20Z
dc.date.available2012-05-01cs
dc.date.available2014-02-06T12:56:20Z
dc.date.issued2013
dc.date.submitted2013-06-03
dc.identifier54746
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/11025/9866
dc.description.abstractVrstvy Hf-B-C vykazují vysokou tvrdost a nízkou rezistivitu. V důsledku toho jsou zajímavé pro mnoho praktických aplikací. Hlavním cílem této práce bylo zkoumat vliv depozičních parametrů a přidávání přímesí na snížení kompresního pnutí a zachování vysoké tvrdosti vrstev připravených pulzní magnetronovou depozicí. Ukázalo se, že změna depozičního tlaku sice vedla ke snížení pnutí, ale za cenu poklesu tvrdosti. Podobné výsledky jsme dostali i při změně depozičního výkonu. Jedinou efektivní cestou se tedy prokázalo přidávání křemíku do vrstvy, které vedlo ke snížení pnutí při zachování vysoké tvrdosti. Zároveň bylo dosaženo lepší oxidační odolnosti materiálu.cs
dc.format43 s.cs
dc.format.mimetypeapplication/pdf
dc.language.isocscs
dc.publisherZápadočeská univerzita v Plznics
dc.rightsPlný text práce je přístupný bez omezení.cs
dc.subjectvrstvy Hf-B-Si-Ccs
dc.subjectpulzní magnetronové naprašovánícs
dc.subjectzbytkové pnutícs
dc.subjecttvrdostcs
dc.subjectoxidační odolnostcs
dc.titlePulzní magnetronová depozice nových nanostrukturních multikomponentních vrstevcs
dc.title.alternativePulsed magnetron deposition of new nanostructured multicomponent filmsen
dc.typebakalářská prácecs
dc.thesis.degree-nameBc.cs
dc.thesis.degree-levelBakalářskýcs
dc.thesis.degree-grantorZápadočeská univerzita v Plzni. Fakulta aplikovaných vědcs
dc.description.departmentKatedra fyzikycs
dc.thesis.degree-programAplikované vědy a informatikacs
dc.description.resultObhájenocs
dc.rights.accessopenAccessen
dc.description.abstract-translatedHf-B-C films exhibit high hardness and low electrical resistivity. That makes them interesting for many different applications. The main aim of this study was to investigate the effects of deposition parameters and addition of silicon on compressive stress in films prepared by pulsed magnetron sputtering. It was found that the change of deposition pressure is not an effective way to reduce the residual stress because of worsening of the hardness. The same conclusions were observed in the case of the deposition power. It was proved that the only effective is an addition of silicon which significantly reduce compressive stress without worsening of the hardness and improve oxidation resistance of the material.en
dc.subject.translatedHf-B-Si-C filmsen
dc.subject.translatedPulsed magnetron sputteringen
dc.subject.translatedResidual stressen
dc.subject.translatedhardnessen
dc.subject.translatedoxidation resistanceen
Vyskytuje se v kolekcích:Bakalářské práce / Bachelor´s works (KFY)

Soubory připojené k záznamu:
Soubor Popis VelikostFormát 
Bakalarska prace - Michal Prochazka.pdfPlný text práce2,01 MBAdobe PDFZobrazit/otevřít
ProchazkaM_vedouci.pdfPosudek vedoucího práce296,12 kBAdobe PDFZobrazit/otevřít
ProchazkaM_oponent.pdfPosudek oponenta práce588,5 kBAdobe PDFZobrazit/otevřít
ProchazkaM_otazky.pdfPrůběh obhajoby práce216,24 kBAdobe PDFZobrazit/otevřít
Zobrazit minimální záznam Zobrazit statistiky


Použijte tento identifikátor k citaci nebo jako odkaz na tento záznam: http://hdl.handle.net/11025/9866

Všechny záznamy v DSpace jsou chráněny autorskými právy, všechna práva vyhrazena.

hledání
navigace
  1. DSpace at University of West Bohemia
  2. Vysokoškolské kvalifikační práce / Theses
  3. Fakulta aplikovaných věd / Faculty of Applied Sciences
  4. Katedra fyziky / Department of Physics
  5. Bakalářské práce / Bachelor´s works (KFY)