Full metadata record
DC pole | Hodnota | Jazyk |
---|---|---|
dc.contributor.advisor | Vlček, Jaroslav | |
dc.contributor.author | Procházka, Michal | |
dc.contributor.referee | Kubásek, Milan | |
dc.date.accepted | 2015-06-19 | |
dc.date.accessioned | 2016-03-15T08:37:43Z | - |
dc.date.available | 2014-05-01 | cs |
dc.date.available | 2016-03-15T08:37:43Z | - |
dc.date.issued | 2015 | |
dc.date.submitted | 2015-05-31 | |
dc.identifier | 64976 | |
dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/11025/17814 | |
dc.description.abstract | Vrstvy na bázi HfB2 jsou známé vysokou tvrdostí, nízkou rezistivitou a oxidační odolností. Díky těmto vlastnostem jsou užitečné v mnoha průmyslových odvětvích. Tato práce je zaměřena na oxidační odolnost vrstev Hf-Si-B-C-N a na její změnu vlivem přidávání dusíku do pracovního plynu. V teoretické části je popsán princip ochrany před oxidací a metody vytváření a analýzy tenkých vrstev. Výsledková část pak popisuje depoziční parametry, mechanické, elektrické, optické a tribologické vlastnosti a oxidační odolnost vrstev Hf Si B C N. | cs |
dc.format | 61 s. | cs |
dc.format.mimetype | application/pdf | |
dc.language.iso | cs | cs |
dc.publisher | Západočeská univerzita v Plzni | cs |
dc.relation.isreferencedby | https://portal.zcu.cz/StagPortletsJSR168/CleanUrl?urlid=prohlizeni-prace-detail&praceIdno=64976 | - |
dc.rights | Plný text práce je přístupný bez omezení. | cs |
dc.subject | vrstvy hf-si-b-c-n | cs |
dc.subject | pulzní magnetronové naprašování | cs |
dc.subject | tvrdost | cs |
dc.subject | oxidační odolnost | cs |
dc.title | Multikomponentní povlaky připravené pulzním reaktivním mangetronovým naprašováním | cs |
dc.title.alternative | Multicomponent coatings prepared by pulsed reactive magnetron sputtering | en |
dc.type | diplomová práce | cs |
dc.thesis.degree-name | Ing. | cs |
dc.thesis.degree-level | Navazující | cs |
dc.thesis.degree-grantor | Západočeská univerzita v Plzni. Fakulta aplikovaných věd | cs |
dc.thesis.degree-program | Aplikované vědy a informatika | cs |
dc.description.result | Obhájeno | cs |
dc.rights.access | openAccess | en |
dc.description.abstract-translated | HfB2-based thin layers are well known for its high hardness, low electrical resistivity and oxidation resistance. Due to these properties the films are useful in many industrial applications. This study is focused on oxidation resistance of Hf-Si-B-C-N thin films and its change caused by addition of nitrogen into the working gas. The principle of protection against oxidation and methods of forming and analysis of thin films are described in the theoretical part. The final section describes the deposition parameters, mechanical, electrical, optical and tribological properties and oxidation resistance of Hf-Si-B-C-N thin films. | en |
dc.subject.translated | hf-si-b-c-n films | en |
dc.subject.translated | pulsed magnetron sputtering | en |
dc.subject.translated | hardness | en |
dc.subject.translated | oxidation resistance | en |
Vyskytuje se v kolekcích: | Diplomové práce / Theses (KFY) |
Soubory připojené k záznamu:
Soubor | Popis | Velikost | Formát | |
---|---|---|---|---|
Diplomova prace - Michal Prochazka.pdf | Plný text práce | 8,55 MB | Adobe PDF | Zobrazit/otevřít |
vedouci-ProchazkaM_vedouci.pdf | Posudek vedoucího práce | 304,8 kB | Adobe PDF | Zobrazit/otevřít |
oponent-ProchazkaM_oponent.pdf | Posudek oponenta práce | 726,54 kB | Adobe PDF | Zobrazit/otevřít |
obhajoba-ProchazkaM_obhajoba.pdf | Průběh obhajoby práce | 230,92 kB | Adobe PDF | Zobrazit/otevřít |
Použijte tento identifikátor k citaci nebo jako odkaz na tento záznam:
http://hdl.handle.net/11025/17814
Všechny záznamy v DSpace jsou chráněny autorskými právy, všechna práva vyhrazena.