Full metadata record
DC poleHodnotaJazyk
dc.contributor.advisorVlček, Jaroslav
dc.contributor.authorProcházka, Michal
dc.contributor.refereeKubásek, Milan
dc.date.accepted2015-06-19
dc.date.accessioned2016-03-15T08:37:43Z-
dc.date.available2014-05-01cs
dc.date.available2016-03-15T08:37:43Z-
dc.date.issued2015
dc.date.submitted2015-05-31
dc.identifier64976
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/11025/17814
dc.description.abstractVrstvy na bázi HfB2 jsou známé vysokou tvrdostí, nízkou rezistivitou a oxidační odolností. Díky těmto vlastnostem jsou užitečné v mnoha průmyslových odvětvích. Tato práce je zaměřena na oxidační odolnost vrstev Hf-Si-B-C-N a na její změnu vlivem přidávání dusíku do pracovního plynu. V teoretické části je popsán princip ochrany před oxidací a metody vytváření a analýzy tenkých vrstev. Výsledková část pak popisuje depoziční parametry, mechanické, elektrické, optické a tribologické vlastnosti a oxidační odolnost vrstev Hf Si B C N.cs
dc.format61 s.cs
dc.format.mimetypeapplication/pdf
dc.language.isocscs
dc.publisherZápadočeská univerzita v Plznics
dc.rightsPlný text práce je přístupný bez omezení.cs
dc.subjectvrstvy hf-si-b-c-ncs
dc.subjectpulzní magnetronové naprašovánícs
dc.subjecttvrdostcs
dc.subjectoxidační odolnostcs
dc.titleMultikomponentní povlaky připravené pulzním reaktivním mangetronovým naprašovánímcs
dc.title.alternativeMulticomponent coatings prepared by pulsed reactive magnetron sputteringen
dc.typediplomová prácecs
dc.thesis.degree-nameIng.cs
dc.thesis.degree-levelNavazujícícs
dc.thesis.degree-grantorZápadočeská univerzita v Plzni. Fakulta aplikovaných vědcs
dc.thesis.degree-programAplikované vědy a informatikacs
dc.description.resultObhájenocs
dc.rights.accessopenAccessen
dc.description.abstract-translatedHfB2-based thin layers are well known for its high hardness, low electrical resistivity and oxidation resistance. Due to these properties the films are useful in many industrial applications. This study is focused on oxidation resistance of Hf-Si-B-C-N thin films and its change caused by addition of nitrogen into the working gas. The principle of protection against oxidation and methods of forming and analysis of thin films are described in the theoretical part. The final section describes the deposition parameters, mechanical, electrical, optical and tribological properties and oxidation resistance of Hf-Si-B-C-N thin films.en
dc.subject.translatedhf-si-b-c-n filmsen
dc.subject.translatedpulsed magnetron sputteringen
dc.subject.translatedhardnessen
dc.subject.translatedoxidation resistanceen
Vyskytuje se v kolekcích:Diplomové práce / Theses (KFY)

Soubory připojené k záznamu:
Soubor Popis VelikostFormát 
Diplomova prace - Michal Prochazka.pdfPlný text práce8,55 MBAdobe PDFZobrazit/otevřít
vedouci-ProchazkaM_vedouci.pdfPosudek vedoucího práce304,8 kBAdobe PDFZobrazit/otevřít
oponent-ProchazkaM_oponent.pdfPosudek oponenta práce726,54 kBAdobe PDFZobrazit/otevřít
obhajoba-ProchazkaM_obhajoba.pdfPrůběh obhajoby práce230,92 kBAdobe PDFZobrazit/otevřít
Zobrazit minimální záznam Zobrazit statistiky


Použijte tento identifikátor k citaci nebo jako odkaz na tento záznam: http://hdl.handle.net/11025/17814

Všechny záznamy v DSpace jsou chráněny autorskými právy, všechna práva vyhrazena.

hledání
navigace
  1. DSpace at University of West Bohemia
  2. Vysokoškolské kvalifikační práce / Theses
  3. Fakulta aplikovaných věd / Faculty of Applied Sciences
  4. Katedra fyziky / Department of Physics
  5. Diplomové práce / Theses (KFY)