| Title: | Nestacionární model pro vysokovýkonové pulzní magnetronové rozprašování kovů |
| Other Titles: | Non-stacionary model for High Power Magnetron sputtering of metals |
| Authors: | Krejčová, Milada |
| Advisor: | Pajdarová, Andrea Dagmar Kozák, Tomáš |
| Referee: | Slavík, Jan |
| Issue Date: | 2013 |
| Publisher: | Západočeská univerzita v Plzni |
| Document type: | bakalářská práce |
| URI: | http://hdl.handle.net/11025/9865 |
| Keywords: | plazma;vysokovýkonové pulzní magnetronové naprašování;rozprašování kovů;HiPIMS;modelování;simulace;nestacionární globální model |
| Keywords in different language: | plasma;high power impulse magnetron sputtering;sputtering of metals;HiPIMS;modelling;simulation;non-stacionary global model |
| Abstract: | Předkládaná bakalářská práce se v úvodu zabývá využitím plazmových technologií. Dále popisuje základy magnetronového naprašování, jejich vývoj a použití, přičemž se zaměřuje především na vysokovýkonové pulzní magnetronové naprašování. Poté rozebírá základní metody modelování a simulace plazmatu a zaobírá se jednotlivými modely pro vysokovýkonové pulzní magnetronové výboje. Ve zvolených metodách zpracování popisuje, jak byl doplněn stávající nestacionární model pro vysokovýkonové pulzní magnetronové rozprašování kovů o parametry nutné k modelování rozprašování tantalu, titanu a zirkonia. Ve výsledcích jsou ukázány a diskutovány závislosti proudové hustoty na třech různých parametrech - výbojovém napětí Ud, koe?cientu zpětného zachycení sekundárních elektronů terčem r a hodnotě faktoru určujícího sekundární emisi elektronů z terče po dopadu iontu rozprašovaného kovu s. |
| Abstract in different language: | The presented bachelor?s thesis is at the beggining focused on using of plasma tech-nologies. Next, it explains basics of magnetron sputtering, its developement and use, with focus on High Power Impulse Magnetron Sputtering. Afterwards, it discusses ba-sic methods in modelling and simulation of plasma, with closer look on speci?c models for High Power Impulse Magnetron Sputtering discharges. The thesis describes how current non-stationary model for High Power Impulse Magnetron Sputtering of metals was supplemented with parameters necessary for modelling of tantal, titanium and zir-conium sputtering. The results are presented and discussed, with focus on dependence of current density on three parameters: discharge voltage Ud, coe cient of recapture of secondary electrons to target r and factor of secondary emission of electrons from target after impact by ion of sputtered metal s. |
| Rights: | Plný text práce je přístupný bez omezení. |
| Appears in Collections: | Bakalářské práce / Bachelor´s works (KFY) |
Files in This Item:
| File | Description | Size | Format | |
|---|---|---|---|---|
| BP - Krejcova Milada.pdf | Plný text práce | 4,67 MB | Adobe PDF | View/Open |
| Krejcova_vedouci.pdf | Posudek vedoucího práce | 525,03 kB | Adobe PDF | View/Open |
| Krejcova_oponent.pdf | Posudek oponenta práce | 579,18 kB | Adobe PDF | View/Open |
| Krejcova_otazky.pdf | Průběh obhajoby práce | 202,39 kB | Adobe PDF | View/Open |
Please use this identifier to cite or link to this item:
http://hdl.handle.net/11025/9865Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.